纳米级三维激光直写设备

        由魔技纳米自主研发的拥有独立知识产权的商用纳米级三维激光直写设备,能同时兼顾高精度和高自由度,实现在纳米级精度上三维结构的自由设计,具有高速度、超分辨、大范围、无限视场等技术优势

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主要技术参数

无掩模三维光刻技术:多光子光固化

三维最小横向特征尺度:260 nm*

层厚:0.5–5.0 μm*

普通样品的最大高度:30mm*

最大加工体积:20mm x 20mm x 30mm*

最佳平面粗糙度Ra:≤ 50 nm*

扫描速度:from 30 to 200mm/s*

* 参数与物镜和光刻胶有关,可选配